shanghai art biennal

Cette biennale d’art est l’occasion de présenter pour la deuxième fois le projet de recherche du monument éphémère en Chine. L’angle d’approche se veut tout autant critique mais cette fois liée a un événement de l’actualité : L’expo2010. La scénographie développe le thème de la brique dans un autre registre, un paysage de ruine est recréé en mousse polyuréthane. Ces briques bleues de 20×10 évoquent par la couleur le bleu de la mascotte de l’exposition universelle, à l’origine de ces destructions massives. Une tension s’installe entre l’œuvre et la scénographie mettant en perspective de manière tragique la relation de cause à effet.

invitation, biennal d’art
statut: réalisé
type: scénographie, recherche
data: 2009, 200 m²
lieu: shanghai, chine
équipe: leroux, jacquier,gowland,chen